Übersicht
von Reinigungsmedien welche in diesen Lösemittel-Reinigungsanlagen (Entfettung)
zum Einsatz gelangen:
wässrige Reinigungsmedien (alkalisch, neutel, sauer)
chlorierte Kohlenwasserstoffe CKW (z.B. Per, Tri)
nichthalogenierte Kohlenwasserstoffe (Flammpunkt > 55°C)
modifizierte Alkohole (FP > 55°C)
diverse Konservier- / Passiviermedien
Ein kompaktes Anlagendesign,
ein wartungsfreundlicher Aufbau der Reinigungsanlage und vielfältige
Programmoptionen wie Spritzen, Fluten, Druckfluten, Ultraschall, vakuumunterstütztes
Reinigen und Trocknen für
kapillare Bauteile und Sachkochbohrungen zeichnen diesen Typ von Teilereinigungsanlagen
aus.
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